专利名称:一种原位三层膜边缘覆盖超导约瑟夫森结制备工艺
专利国别:中国
专利号:201510125770.3
法律状态:授权
发明人:李浩,刘其春,刘建设,李铁夫,陈炜
申请人:清华大学
地址:100084 北京市海淀区双清路33号
申请日期:2015-03-20
授权日期:2017-03-29
摘要:
一种原位三层膜边缘覆盖超导约瑟夫森结制备工艺,工艺流程由原位生长三层膜、生长引线层、光刻和刻蚀定义结区三部分组成,Nb约瑟夫森结和Al约瑟夫森结的具体步骤和细节有所不同,最终可得到没有二氧化硅、有Al保护的Nb约瑟夫森结,或者没有多余电极、没有多余绝缘层的Al约瑟夫森结,本发明具有步骤简单、质量高、可规模化等特点。
专利证书:
PDF/Jpg